1. 常規(guī)拋光能力與表面粗糙度常規(guī)工業(yè)應(yīng)用:雙端面研磨機(jī)對(duì)金屬、陶瓷、硬質(zhì)合金等材料,常規(guī)加工可穩(wěn)定達(dá)到Ra 0.3μm的表面粗糙度,部分設(shè)備通過(guò)優(yōu)化工藝和拋光工序,可進(jìn)一步降低到Ra 0.1μm甚至更低。案例佐證:如鈦合金工件研磨,平面度1μm、平行度1μm、光潔度Ra0.3,已滿足多數(shù)高精度工業(yè)需求。2. 鏡面級(jí)拋光能力高端設(shè)備與工藝:采用超細(xì)磨料、金剛石砂輪、精密加壓和自動(dòng)控制系統(tǒng),雙端面研磨機(jī)可以實(shí)現(xiàn)鏡面級(jí)加工(Ra≤0.1μm),尤其在半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃、藍(lán)寶石等硬脆材料領(lǐng)域應(yīng)用廣泛。3. 影響拋光能力的關(guān)鍵因素磨料與研磨盤(pán)