平面拋光研磨機(jī)械設(shè)備的工作原理,依據(jù)設(shè)備結(jié)構(gòu)和應(yīng)用工藝的不同,主要可歸納為以下幾種類型,每種原理適用于不同精度和表面處理要求的平面工件(如金屬、陶瓷、玻璃、晶圓、塑料等):一、雙面研磨拋光原理平面拋光研磨機(jī)械工作原理:工件夾持在上下兩個(gè)磨盤之間,通過(guò) 上下盤反向旋轉(zhuǎn) 實(shí)現(xiàn)均勻磨削或拋光;工件在行星齒輪系統(tǒng)或游星輪中運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)+公轉(zhuǎn),提高平整度和效率;通常配合使用研磨液或拋光液(含磨粒)。平面拋光研磨機(jī)械特點(diǎn):精度高(可達(dá)μm級(jí)甚至nm級(jí));適用于金屬、陶瓷、硅片、玻璃等高精度要求工件;適合高平面度